TSMC、2nmと3nmプロセスノードの進捗を発表

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TSMC

TSMCは、2nmおよび3nmプロセスノードの進捗を発表しました。

2022年4月14日、TSMCのCEO、C.C.Wei氏はN2(2nm)プロセスについて以下のように語った。

C.C.Wei: N2の開発は新しいトランジスタの構造も含めて順調に進んでいます。2024年末にはリスク生産に入り、2025年に大量生産を計画しています。おそらく2025年後半、あるいは2025年末頃には量産が始まるでしょう。

N2は、FinFET (Fin Field-Effect Transistor)の代わりにGAA (Gate All Around)を採用した最初のTSMCプロセスであるとされている。Samsungはすでに自社仕様のGAAを使い始めており、Intelは2024年に自社仕様のGAAを実装する予定だ。

GAA (Gate All Around)

また、TSMCの役員によると、2022年後半(7~12月)にN3(3nm)プロセスの量産を開始するという。さらに1年後、あるいはもっと早くに、N3の性能・電力・歩留まりを向上したN3Eプロセスの量産も予定されている。

[Source: TECHSPOT / Tom’s Hardware

2nmの量産は2025年後半とのことで、2nmチップを使用した実際の製品が発売されるのは2026年頃になることが見込まれます。

Posted by にっち